Cele szkolenia
Cele szkolenia:
- Przedstawienie, szczegółowe omówienie, praktyczne wykorzystanie i interpretacja wyników w zakresie stosowania narzędzi statystycznego sterowania procesem (SPC) i kwalifikacji systemów pomiarowych (MSA) zgodnie
z aktualnymi wymaganiami branży lotniczej - SAE RM 13006:2021 „Process Control Methods”, SAE RM 13003:2021 „Measurement Systems Analysis”
Przedmiot szkolenia:
- Podstawę formalną stanowią normy: SAE RM 13006:2021 „Process Control Methods”, SAE RM 13003:2021 „Measurement Systems Analysis” wraz z wszystkimi dokumentami powiązanymi, m.in. AS13003:2015, AS13006:2018, ASTM E2782:2014, ISO 22514-7:2021, AIAG Reference Manual MSA 4-th ed.2010, Detroid MI, AIAG Reference Manual SPC 2-nd ed.2005, Detroid MI, Breyfogle 2003 (ISBN 0-471-26572-1), Minitab suport documentation (www.minitab.com).
Symbol szkolenia
AS-SPC_MSA
Terminy i miejsce
24 - 26 kwietnia 2023
do rozpoczęcia pozostało 1 miesiąc 27 dni
Lokalizacja: Kraków, ul. Bociana 22a
Karta zgłoszeń:
https://tqmsoft.com/uploads/important_files/karta-zgloszenia.doc
Harmonogram szkoleń otwartych TQMsoft 2023 I
https://tqmsoft.com/uploads/important_files/harmonogram-szkolen-tqmsoft-2023-1-pol.pdf
Szacunkowy udział części praktycznej: 65%
Czas trwania: 3 dni po 7 godz.
Program i ćwiczenia
Program szkolenia:
Część 1 - Statystyczne sterowanie procesem (SPC).
- Ocena zdolności procesu (współczynniki Pp, Ppk, Cp, Cpk): dwustronna granica specyfikacji/jednostronna granica specyfikacji, rozkład normalny/rozkład inny od rozkładu normalnego (transformacje Box-Cox/Johnson, procedura dopasowanie rozkładu). Zdolność Between/Within. Funkcja straty.
- Zdolność procesu w przypadku oceny atrybutowej.
- Karty kontrolne Shewharta w przypadku parametrów mierzalnych (xbar-R,I-MR, karta I-MR-R/S – dobór, konstrukcja, interpretacja). Karty kontrolne w przypadku oceny alternatywnej (p, np., c, u – dobór, konstrukcja, interpretacja). Inne karty kontrolne (w przypadku rozkładów innych od normalnego, w przypadku tzw. zdarzeń rzadkich).
- Równoczesne monitorowanie procesu ze względu na wiele parametrów. Krótkie serie (karta prekontroli Green-Yellow-Red, karta DNOM odchyleń od wartości nominalnej). Organizacja SPC (korzyści, pokonywanie przeciwności, zalecenia odnośnie treningu).
- Relacje SPC/PFMEA.
Część 2 - Analiza systemów pomiarowych (MSA).
- Pojęcia podstawowe (proces/system pomiarowy, poprawność – błąd systematyczny, stabilność, liniowość; precyzja - powtarzalność, odtwarzalność, interakcja ).
- Podział charakterystyk Critical/Major/Minor.
- Ocena procesu pomiarowego (EMP – Evaluating the Measurement Process): jeden operator/urządzenie pomiarowe/jedna część, jeden operator/urządzenie pomiarowe/kilka części, kilku operatorów/urządzenia pomiarowe/kilka części.
- Metody i kryteria kwalifikacji (Short/Basic EMP Study)–analiza wariancji (ANOVA) (preferowana !!!), metoda średniej
i rozstępu, ocena spójności (Consistency Study), zasady wyznaczanie i interpretacja pasm ochronnych (Guard Bands), współczynnik korelacji wewnątrzklasowej (Interclass Correlation Coefficient ICC). - Współczynniki: precyzja/do tolerancji P/T, liczba rozróżnialnych kategorii ndc – wyznaczanie, interpretacja.
- Analiza graficzna – karta kontrolna wartości średniej i rozstępu, wykres interakcji, wykorzystanie karty ANOM, karty przebiegu procesu pomiarowego, wykresy typu Multi-Vari Charts. Ocena błędu systematycznego (bias) oraz liniowości.
- Wyznaczanie i interpretacja współczynników zdolności urządzenia pomiarowego Cg, Cgk (Cg, Cgk Study).
- Kwalifikacja w przypadku jednostronnej granicy specyfikacji. Ocena wpływu temperatury.
- MSA w przypadku oceny atrybutowej – metoda długa (R&R dla atrybutów), współczynnik kappa Cohena – technika, interpretacja.
- Dane porządkowe (np. skale wzorców – wielkość ziarna, wtrącenia niemetaliczne) – wyznaczanie i interpretacja współczynnika ICC (Interclass Correlation Coefficient).
- Wykorzystanie metod planowania eksperymentu (DOE) w MSA. Powiązania MSA/FMEA.
Korzyści dla Uczestnika
Uczestnik nauczy się:
- Identyfikować zapotrzebowanie na stosowanie narzędzi SPC i MSA w branży lotniczej .
- Dokonywać statystycznej analizy danych pochodzących z procesu.
- Określać warunki jakie muszą być spełnione żeby w sposób właściwy stosować i wykorzystać metody SPC i MSA.
- Posługiwać się narzędziami SPC i MSA w sposób praktyczny – dobierając narzędzia, zasady rachunkowe i interpretacyjne.
Uczestnik dowie się:
- Jakie korzyści dostarcza stosowanie SPC i MSA – odniesienie do właściciela procesu, odniesienie do klienta.
- Jakie są wymagania odnośnie stosowania metod SPC i MSA w kontekście współcześnie stosowanych formalnych oczekiwań – SAE RM 13006:2021 „Process Control Methods”, SAE RM 13003:2021 „Measurement Systems Analysis”
- Kiedy, gdzie, przy spełnieniu jakich warunków, wykorzystywać określone narzędzia SPC i MSA.
- Na co zwracać szczególną uwagę w analizie danych procesowych i kwalifikacji systemów pomiarowych.
Metodyka
Szkolenie ma charakter warsztatowy. Wszystkie podejmowane zagadnienia ilustrowane są wieloma przykładami, w których uwaga skierowana jest zarówno na stronę rachunkową (Minitab), jak i na stronę znaczeniową (interpretacja otrzymanych wyników w aspekcie oceny jakości procesów produkcyjnego/ pomiarowego oraz możliwości ich doskonalenia.
Adresaci
- specjaliści ds. jakości, inżynierowie jakości, technolodzy,
- osoby odpowiedzialne za jakość, pracownicy działów zapewnienia jakości, inżynierowie jakości, analitycy,
- osoby odpowiedzialne za wdrożenie, utrzymanie i doskonalenie procedur SPC i MSA w przedsiębiorstwie,
- osoby odpowiedzialne za jakość dostawców, pracownicy działów współpracujących z klientem,
- osoby odpowiedzialne za nadzorowanie systemów / procesów pomiarowych,
- pracownicy izb pomiarów, szefowie kontroli jakości.
Dodatkowe informacje
Cena szkolenia obejmuje:
- udział w szkoleniu,
- materiały w formie papierowej, segregator, notatnik, długopis,
- bezpłatny dostęp do elektronicznych materiałów szkoleniowych,
- certyfikat uczestnictwa w szkoleniu,
- możliwość bezpłatnych 3-miesięcznych konsultacji po szkoleniu,
- obiady, przerwy kawowe oraz słodki poczęstunek
